何杰
【姓名】 何杰
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光退火,表面光电压,表面光电压谱,晶化,碳化硅,硅薄膜,SiC薄膜,光致发光,光退火,晶化特性,脉冲激光,氮化,单晶硅,螺旋波,碳化硅薄膜,等离子体增强,光学特性,纳米碳化硅,激光能量密度,非晶,化...
【工作单位】 河北大学
【曾工作单位】 河北大学;
【所在地域】 保定
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[1]于威,何杰,孙运涛,朱海丰,韩理,傅广生.碳化硅薄膜脉冲激光晶化特性研究[J]物理学报.2004,(06)
[2]于威,侯海虹,何杰,王华英,傅广生.HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性[J]无机材料学报.2004,(04)
[3]王华英,朱海丰,何杰,李丽宏.半导体光电特性的表面光电压谱表征[J]河北建筑科技学院学报.2004,(02)
[4]于威,何杰,孙运涛,韩理,傅广生.脉冲激光退火纳米碳化硅的光致发光[J]光谱学与光谱分析.2005,(04)
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