石国华
【姓名】 石国华
【职称】 工程师;
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;计算机软件及计算机应用;
【研究方向】 半导体器件的研究
【发表文献关键词】 硅单晶片,红外电视显微镜,重金属玷污,洁净硅片工艺,俄歇谱,红外吸收谱,氮化硅膜,制冷器件,氮化硅,无损检测,微氮直拉硅单晶,多媒体技术,开发利,深能级,电子辐照,后邻字符树算法,半导体制冷,杂质,洁...
【工作单位】 杭州大学
【曾工作单位】 杭州大学;
【所在地域】 杭州
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[1]石国华.半导体制冷器件的开发利用[J]今日科技.1994,(03)
[2]丁扣宝,张秀淼,石国华,孙勤生,施建青.电子辐照微氮直拉硅单晶的深能级的研究[J]电子科学学刊.1995,(03)
[3]石国华.多媒体技术及其应用开发[J]今日科技.1996,(07)
[4]石国华.科技文献主题词的自动标引法[J]杭州大学学报(自然科学版).1998,(03)
[5]石国华,竺树声,卢兆伦,曾庆诚.玷污硅片的无损检测及洁净工艺[J]杭州大学学报(自然科学版).1991,(03)
[6]张秀淼,石国华,杨爱龄.用红外吸收谱和俄歇谱研究氮化硅的成分和杂质[J]半导体学报.1993,(10)
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