庞国锋
【姓名】 庞国锋
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金刚石膜,强电子流,成核和生长,化学气相沉积法,金刚石多晶膜,基体材料,金刚石,金刚石膜生长,CVD法,多种材料,中心实验室,Raman谱,高温高压合成,弧放电,制作器,结合强度,气休,成核,特种材料...
【工作单位】 杭州大学
【曾工作单位】 杭州大学;
【所在地域】
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[1]邱东江,石成儒,曾耀武,郝天亮,庞国锋.多种材料上金刚石膜的成核和生长研究[J]表面技术.1997,(01)
[2]石成儒,庞国锋,徐月明,邱东江.强电子流增强化学气相沉积法生长金刚石膜[J]杭州大学学报(自然科学版).1992,(02)
[3]曾跃武;卢兆伦;石成儒;庞国锋;邱东江;张慧明;顾建明;.绝缘材料薄膜在SEM的直接观察法[J]广西大学学报(自然科学版).1993,(S1)
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