钦万昌
【姓名】 钦万昌
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 杂质含量,制管,有害杂质,成品率,微缺陷,实验结果,晶格畸变,吸杂技术,实验证明,密度,机制,氮化硅,工艺过程,外延片,工艺流程,测试条件,实验观察,晶体,硅晶体,吸除技术,漏电流,高温炉,失配位错,...
【工作单位】 哈尔滨工业大学
【曾工作单位】 哈尔滨工业大学;
【所在地域】
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[1]叶以正,周士仁,修志伟,钦万昌,南昌范,高杨,周伟东,杨奎,薛正镠.Si_3N_4对硅晶体中微缺陷的吸除[J]哈尔滨工业大学学报.1982,(01)
[2]叶以正,周士仁,钦万昌,周伟东,高扬,杨奎.双重吸杂技术的研究[J]哈尔滨工业大学学报.1982,(02)
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