何代义
【姓名】 何代义
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 晶化,Se薄膜,晶化特性,非晶态,Ｘ射线,玻璃衬底,原子,样品表,热胀系数,蒸镀,微裂纹,淀积速率,热处理过程,半导,双层膜,热应力,退火过程,图版,晶态,晶粒,
【工作单位】 哈尔滨工业大学
【曾工作单位】 哈尔滨工业大学;
【所在地域】
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[1]鲍海飞,叶水驰,兰慕杰,袁保红,何代义,周士仁,王骐.Sb/Se薄膜的晶化特性研究[J]半导体学报.1998,(05)
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