袁涛
【姓名】 袁涛
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;电力工业;
【研究方向】 结构材料方面的研究
【发表文献关键词】 MoSi2,FeS2,复相材料,Mo5Si3,反应烧结法,光电性能,混合粉末,烧结温度,球磨,黄铁矿,MoSi_2,影响因素,FeS_2,WSi2,制备,增强体,硅化物,粉末反应,禁带宽度,化学反应,...
【工作单位】 桂林电子工业学院
【曾工作单位】 桂林电子工业学院;
【所在地域】 广西桂林
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[1]王统洋,刘心宇,林培豪,黄思玉,袁涛.FeS_2薄膜光电性能的影响因素[J]电工材料.2004,(04)
[2]袁涛,林培豪,刘心宇.MoSi_2及其复相材料的研究进展[J]电工材料.2004,(04)
[3]袁涛,刘心宇,成钧,王统洋.反应烧结法制备硅钼化合物[J]桂林电子工业学院学报.2005,(03)
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