倪尔瑚
【姓名】 倪尔瑚
【职称】
【研究领域】 材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铁电薄膜,退火温度,Bi4Ti3O12,Si基,微观结构,c轴取向,Si单晶,晶粒尺寸,Si衬底,晶相结构,原子力显微镜,晶粒,表面形貌,退火处理,衍射峰,晶粒边界,湿膜,薄膜粗糙度,晶格常数,膜结晶,
【工作单位】 桂林电子工业学院
【曾工作单位】 桂林电子工业学院;
【所在地域】 桂林
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[1]王华,于军,王耘波,倪尔瑚.退火温度对Si基Bi_4Ti_3O_(12)铁电薄膜微观结构影响研究[J]材料工程.2002,(11)
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