职利
【姓名】 职利
【职称】 助教;
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;无线电电子学;
【研究方向】 功能薄膜材料研究
【发表文献关键词】 HDDR,NdFeB,ITO薄膜,各向异性,磁各向异性,向异性,HDDR工艺,水热法制备,正交试验,NdFeB磁粉,脱氢,制备方法,保温时间,正交优化设计,氢气,合金,保温温度,NdFeB合金,前驱物...
【工作单位】 桂林电子工业学院
【曾工作单位】 桂林电子工业学院;
【所在地域】 广西桂林
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[1]职利;徐华蕊;朱归胜;周怀营;.水热法制备ITO薄膜的研究[J]材料导报.2006,(05)
[2]职利;徐华蕊;周怀营;.氧化铟锡薄膜制备工艺参数的正交优化设计[J]液晶与显示.2006,(05)
[3]林培豪,任静,职利,王仲民.HDDR工艺对各向异性NdFeB性能的影响[J]桂林电子工业学院学报.2003,(05)
[4]林培豪,成钧,职利.添加元素和HDDR工艺对NdFeB磁粉磁各向异性的影响[J]电工材料.2003,(04)
[5]职利,周怀营.ITO薄膜的制备方法与应用[J]桂林电子工业学院学报.2004,(06)
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