张克云
【姓名】 张克云
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 相淀积,碳氮化,化学汽,淀积工艺,硅薄膜,真空泵,钝化膜,碳氮化硅,电磁阀门,工艺实验,设备的使用,真空泵油,介质薄膜,抽除,PECVD,残气,淀积速率,真空计,浮子流量计,过滤装置,真空系统,玻璃管...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】
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[1]王柏青，张克云，包宗明，王焕杰，王季陶.PECVD制备新型介质薄膜碳氮化硅工艺性能研究[J]功能材料.1994,(05)
[2]王焕杰，张克云，陈振昌.化学汽相淀积（CVD）设备的使用与维修[J]电子与自动化.1994,(05)
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