周庆
【姓名】 周庆
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅化钨,等离子增强,化学汽相淀积,碳化硅薄膜,碳化硅,俄歇电子能谱,非晶半导体薄膜,深度剖析,俄歇谱,氮氧化硅薄膜,热力学研究,化学气相淀积,制备条件,淀积条件,碳氮化硅,击穿电场,化合物薄膜,气相,...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】
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[1]王季陶,王永发,王焕杰,周庆.CVD 钨的淀积和性质研究[J]微电子学与计算机.1987,(02)
[2]张伟,周庆,王永发,王焕杰,王季陶,刘德中.等离子增强化学汽相淀积SiC_x:H和SiN_xC_y:H薄膜的特点[J]固体电子学研究与进展.1988,(04)
[3]王永发,张世理,周庆,王季陶.化学气相淀积硅化钨体系热力学研究[J]电子学报.1989,(03)
[4]刘德中,罗兴华,张伟,周庆,王季陶.PECVD SiC薄膜的AES研究[J]真空科学与技术.1989,(03)
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