张世理
【姓名】 张世理
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;材料科学;动力工程;
【研究方向】
【发表文献关键词】 计算机模拟,淀积速率,蒸汽淀积,太阳能电池,均匀性,三维计算机模拟,低压化,硅膜,硅化钨,氮化,LPCVD,氮化硅,PECVD,氢含量,基体温度,算式,低压化学气相淀积,速率分布,三维模拟,反应管,含...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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[1]葛亮;胡成;朱志炜;张卫;吴东平;张世理;.Influence of surface preparation on atomic layer deposition of Pt films[J]半导体学报.2012,(08)
[2]承焕生,王季陶,周筑颖,徐志伟,任月华,张世理.等离子体淀积氮化硅膜的含氢量分析[J]电子学报.1984,(06)
[3]王季陶,张世理,王焕杰,连美华.低压化学蒸汽淀积的三维计算机模拟[J]半导体学报.1984,(06)
[4]王季陶,张世理,王焕杰,连美华.三维LPCVD计算机模拟[J]自然杂志.1984,(04)
[5]王季陶,张世理.低压化学蒸汽淀积(LPCVD)的三维计算机模拟通式[J]中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学).1986,(11)
[6]王季陶,张世理.三维LPCVD计算机模拟通式[J]自然杂志.1986,(02)
[7]张世理;王永发;.化学蒸汽淀积簿膜工艺中复相体系的热力学计算[J]计算机与应用化学.1987,(04)
[8]王永发,张世理,周庆,王季陶.化学气相淀积硅化钨体系热力学研究[J]电子学报.1989,(03)
[9]王永发,张世理,王季陶.LPCVD淀积速率分布的解析表达式[J]半导体学报.1989,(08)
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