钟晓霞
【姓名】 钟晓霞
【职称】
【研究领域】 材料科学;物理学;核科学技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 鞘层,电子回旋共振,蒙特卡罗模拟,离子行为,离子能量分布,衬底偏压,中性区,等离子体,电势,磁场方向,ECR等离子体,离子能量,中性原子,底表面,能量分布,输运,负偏压,弹性碰撞,子体,电荷交换,
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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[1]钟晓霞,吴嘉达,孙剑,伍长征,李富铭.衬底偏压对ECR等离子体鞘层和离子行为的影响[J]核聚变与等离子体物理.1999,(02)
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[1]吴嘉达;钟晓霞;孙剑;伍长征;李富铭;.纳米硅颗粒膜的制备及其光致发光特性的研究[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
[2]吴嘉达;钟晓霞;孙剑;伍长征;李富铭;.电子回旋共振等离子体辅助的反应脉冲激光沉积方法制备氮化物薄膜[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
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