应质峰
【姓名】 应质峰
【职称】 副教授;
【研究领域】 物理学;材料科学;无线电电子学;
【研究方向】 激光束和离子束材料改性和制备研究
【发表文献关键词】 激光诱导沉积,电镀铂,薄膜,p-Si,氮化铝,低温沉积,脉冲激光沉积,激光诱导等离子体,激发,蒸汽击穿,激光烧蚀,p-Si,激光诱导,局部沉积,铝薄膜,氮化,铜原子,电离,复旦大学,材料改性,国家重点...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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[2]应质峰;葛天如;徐红;云永旺;徐雷;.复旦大学开放式拔尖学生培养模式的实践与探索[J]中国大学教学.2014,(03)
[3]孙剑,吴嘉达,应质峰,施维,凌浩,周筑颖,丁训民,王康林,李富铭.氮化铝薄膜的低温沉积[J]半导体学报.2000,(09)
[4]凌浩,施维,孙剑,应质峰,吴嘉达,李富铭,王康林,丁训民.用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜[J]中国激光.2001,(03)
[5]凌浩,吴嘉达,应质峰,孙剑,许宁,李富铭.激光诱导等离子体中铜原子和铜离子的时空行为[J]原子核物理评论.2002,(02)
[6]崔启明,江志裕,郁祖湛,应质峰.p-Si上激光诱导局部沉积铂[J]应用化学.1998,(04)
[7]罗龙根;应质峰;张敏毅;钱红声;.可调谐激光器中光栅的安装和调整[J]应用激光.1990,(04)
[8]熊夏幸;钱士雄;任忠民;应质峰;何懋其;李郁芬;苏毅;陈良尧;.低能C_(60)离子束流淀积薄膜及其光谱特性[J]科学通报.1993,(19)
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[2]唐文涛;孙剑;许宁;应质峰;吴嘉达;.HfO_2薄膜的制备及其性质研究[A].上海市激光学会2009年学术年会论文集.2009-10-23
[3]唐文涛;应质峰;孙剑;许宁;吴嘉达;.等离子体辅助脉冲激光沉积ZrO_2薄膜[A].上海市激光学会2009年学术年会论文集.2009-10-23
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承担国家科研项目    共找到3个
[1]应质峰;.激光诱导冷等离子体及其在痕量元素分析中的应用[A].复旦大学;.项目经费 31万元.2003-03-31.资助文献数 0
[2]应质峰;.超快脉冲激光烧蚀动力学研究[A].复旦大学;.项目经费 14.5万元.1999-03-31.资助文献数 0
[3]应质峰.基于激波与等离子体作用增强的激光诱导击穿光谱研究和应用探索[A].复旦大学.项目经费 10万元.2009-10-10.资助文献数 0
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