万歆
【姓名】 万歆
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多孔硅,多孔硅膜,龟裂现象,显微观测,多孔硅薄膜,表面形貌,硅衬底,C-V曲线,光照射,湿膜,发光机理,空气中,物理学报,小电流密度,干的过程,C-V特性,紫外,发光多孔硅,红色光,MOS结构,形貌,...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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[1]李刚,万歆,钟以诚,朱永强,戴道宣.储存初期多孔硅膜龟裂现象的显微观测与分析[J]物理学报.1996,(11)
[2]李刚,万歆,朱永强,戴道宣.多孔硅表面形貌的观测和探讨[J]物理实验.1997,(02)
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