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高如芳
【姓名】
高如芳
【职称】
【研究领域】
物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
复合腔,连续CO_2激光,光栅,高功率,激光退火,光吸收系数,折迭,电阻率,激光物理,腔体,热退火,单晶硅,高增益,CO_2激光,稳定性研究,工作点,离子注入硅,复旦大学,端镜,输出耦合器,载流子浓度...
【工作单位】
复旦大学
【曾工作单位】
复旦大学;
【所在地域】
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中国期刊全文数据库
共找到8篇
[1]何懋麒,高如芳,赵有源.
用复合腔调谐获得高功率CW CO_2激光谱线的研究
[J]激光.1980,(08)
[2]何懋麒,高如芳,郑家骠,赵有源.
用复合腔获得可调连续CO_2激光的高功率输出
[J]激光.1980,(Z1)
[3]赵有源,高如芳,钱红声,何懋麒.
谱线可调折迭-复合腔的稳定性研究
[J]光学学报.1982,(03)
[4]邬建根,沈金萱,屈逢源,杨恒青,赵有源,高如芳.
CW CO_2激光退火后离子注入硅片的性质研究
[J]电子学报.1983,(02)
[5]赵有源,吴仲墀,高如芳,钱佑华.
在10.6μm上硅单晶吸收系数与电阻率的关系
[J]红外研究.1984,(04)
[6]吴仲墀,赵有源,高如芳,钱佑华.
单晶硅的10.6μm光吸收系数与电阻率的关系
[J]半导体学报.1985,(03)
[7]何懋麒,王国益,赵有源,高如芳,王兆永.
用于测量半导体材料氧含量的9.1μmCO_2激光器
[J]红外研究(A辑).1985,(04)
[8]赵有源;王兆永;何矛其;高如芳;.
用激光光声光谱方法研究半导体材料的掺杂浓度及电阻率特性
[J]应用激光.1985,(01)
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