樊永良
【姓名】 樊永良
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 导纳谱,量子阱,掺铒,光致发光,基态,激发能,纳米Si,量子尺寸效应,SiO_x,温度淬灭,生长,Ge,重空穴,掺入,发光强度,Si基,量子点,Si/Ge界面互扩散,量子限,硅基有机微腔,退火时间,制...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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[1]杨鸿斌;樊永良;张翔九;.微区中MBE共度生长SiGe/Si异质结构的应变和退火效应[J]半导体学报.2007,(08)
[2]熊祖洪,史华忠,樊永良,张松涛,詹义强,何钧,钟高余,徐少辉,柳毅,王晓军,王子君,丁训民,黄维,侯晓远.电致发光色纯性增强的硅基有机微腔[J]物理学报.2003,(05)
[3]朱燕艳,徐润,陈圣,方泽波,薛菲,樊永良,蒋最敏.电子束外延生长Er_2O_3单晶薄膜[J]江西科学.2005,(04)
[4]陈圣,徐润,朱燕艳,方泽波,薛菲,樊永良,蒋最敏.Er_2O_3薄膜的电学性质研究[J]江西科学.2005,(05)
[5]熊祖洪,樊永良,詹义强,张松涛,丁训民,侯晓远.多孔硅反射镜基有机微腔器件的微结构和光电特性研究[J]中国科学E辑:工程科学 材料科学.2005,(03)
[6]周星飞,施斌,蒋伟荣,胡冬枝,樊永良,龚大卫,张翔九,蒋最敏.硼原子对Si(100)衬底上Ge量子点生长的影响[J]半导体学报.2000,(08)
[7]周星飞,施斌,胡冬枝,樊永良,龚大卫,蒋最敏.量子点的形成对Si/Ge界面互扩散的影响[J]半导体学报.2002,(07)
[8]林峰,盛篪,袁帅,刘晓晗,龚大卫,万钧,樊永良.SiO薄膜的光致发光研究[J]自然科学进展.1999,(S1)
[9]盛篪,周铁城,龚大卫,樊永良,王建宝,张翔九,王迅.在Ge和SiGe复合缓冲层上生长高质量Ge/Si超晶格[J]半导体学报.1996,(01)
[10]盛篪,龚大卫,樊永良,刘晓晗,黄大鸣,王迅.用电化学方法在硅中掺铒发光的研究[J]自然科学进展.1996,(06)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]林健晖;杨鸿斌;秦娟;章斌;樊永良;杨新菊;蒋最敏;.Si覆盖层对自组织生长Ge/Si量子点组分、应变的影响[A].第十四届全国光散射学术会议论文摘要集.2007-10-01
[2]林健晖;杨鸿斌;秦娟;章斌;樊永良;杨新菊;蒋最敏;.Si覆盖层对自组织生长Ge/Si量子点组分、应变的影响[A].第十六届全国半导体物理学术会议论文摘要集.2007-09-01
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