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陈哉
【姓名】
陈哉
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
椭偏光,谱术,光损伤,抛光工艺,谱法,介电函数,复介电函数,相模型,非理想,抛光硅片,光子能,椭偏参数,硅片抛光剂,抛光,抛光表面,虚部,谱仪,椭偏光谱,质量,有效介质,
【工作单位】
复旦大学
【曾工作单位】
复旦大学;
【所在地域】
上海
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
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共找到1篇
[1]陈哉,钱佑华.
硅片抛光工艺质量微细差别的椭偏光谱法鉴别
[J]半导体学报.1988,(02)
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