施维
【姓名】 施维
【职称】
【研究领域】 材料科学;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氮化铝,薄膜,脉冲激光沉积,低温沉积,激光烧蚀,铝薄膜,氮化,材料改性,复旦大学,国家重点实验室,近红外波段,透射谱,能隙,衬底温度,烧蚀,氧杂质,物理系,AlN薄膜,透射率,红外,ECR等离子体,靶...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]孙剑,吴嘉达,应质峰,施维,凌浩,周筑颖,丁训民,王康林,李富铭.氮化铝薄膜的低温沉积[J]半导体学报.2000,(09)
[2]凌浩,施维,孙剑,应质峰,吴嘉达,李富铭,王康林,丁训民.用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜[J]中国激光.2001,(03)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]施维;凌浩;孙剑;章企;吴嘉达;应质峰;丁训民;李富铭;.ECR等离子体辅助反应脉冲激光沉积氮化碳薄膜[A].第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集.2001-10-01
[2]凌浩;应质峰;吴嘉达;孙剑;施维;杜元成;李富铭;.以GaAs为原材料低温制备GaN薄膜[A].第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集.2001-10-01
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