盛箎
【姓名】 盛箎
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 一氧化硅,砷化镓,界面态密度,花生酸,氧化层,界面特性,特性研究,界面态,自体,禁带,积累区,费米能级钉扎,阳极氧化,平带电压,氧化层厚度,阳极氧化过程,电容变化,费米能级,低温蒸发,正电荷,
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 0 0 1 0 26
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]盛箎,任云珠.砷化镓-氧化硅界面特性研究[J]应用科学学报.1989,(01)
更多