王焕杰
【姓名】 王焕杰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;建筑科学与工程;自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 高纯硅,计算机模拟,硅烷,蒸汽淀积,淀积速率,类金刚石薄膜,太阳能电池,生长研究,硅锭,均匀性,低压化,三维计算机模拟,多晶硅,等离子增强,硅化镁,化学汽相淀积,多晶硅薄膜,冷冻液化,低温蒸馏,半导体...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】
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[1]王柏青，张克云，包宗明，王焕杰，王季陶.PECVD制备新型介质薄膜碳氮化硅工艺性能研究[J]功能材料.1994,(05)
[2]王焕杰，张克云，陈振昌.化学汽相淀积（CVD）设备的使用与维修[J]电子与自动化.1994,(05)
[3]王焕杰,钱佩华.分体式空调器故障分析与维修[J]电子与自动化.1996,(04)
[4]王季陶,沈兆友,鲍慧君,王焕杰,蒋克成,缪锡奎.高纯硅烷气的制取[J]半导体技术.1981,(05)
[5]王季陶,张世理,王焕杰,连美华.低压化学蒸汽淀积的三维计算机模拟[J]半导体学报.1984,(06)
[6]王季陶,张世理,王焕杰,连美华.三维LPCVD计算机模拟[J]自然杂志.1984,(04)
[7]俞国林,王焕杰.LPCVD的微型计算机控制系统[J]复旦学报(自然科学版).1987,(04)
[8]王季陶,王永发,王焕杰,周庆.CVD 钨的淀积和性质研究[J]微电子学与计算机.1987,(02)
[9]张伟,周庆,王永发,王焕杰,王季陶,刘德中.等离子增强化学汽相淀积SiC_x:H和SiN_xC_y:H薄膜的特点[J]固体电子学研究与进展.1988,(04)
[10]王海荣,王永发,王焕杰,张伟,王季陶.类金刚石薄膜的生长研究[J]固体电子学研究与进展.1988,(04)
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