【姓名】
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 界面缺陷,缺陷能级,势垒,外延层,费密能,分子束,俘获过程,能级位置,电子浓度,肖特基,外加电压,反向偏压,禁带,发射过程,深能级缺陷,瞬态电容,脉冲电压,能带图,瞬态谱,脉冲宽度,
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】
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[1]陆 昉 ,龚大卫,孙恒慧.同质硅分子束外延层的界面缺陷的研究[J]物理学报.1994,(07)
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