鲁钟
【姓名】 鲁钟
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 快速退火,电子束处理,电子束退火,低能电子束,阴极电子束,硅化物,硅薄膜,快速处理,电子束,衍射谱,束流密度,硅化钨,x射线,VLSI,电路,硅化物薄膜,择优生长,复旦大学,浅结,硼离子注入,MOS器...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】
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[1]杜元成,鲁钟,郁曾期,孙迭篪,李富铭,G.J.Collions.用冷阴极电子束快速处理金属-硅薄膜生成硅化物[J]半导体学报.1985,(02)
[2]杜元成,鲁钟,吴苏华,郁曾期,李幸福,孙迭■,李富铭.大面积低能电子束快速退火在4ETPM电路制作中的应用[J]应用科学学报.1987,(04)
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