顾岚岚
【姓名】 顾岚岚
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 掺Er硅,铒,发光,纳米硅,发光效率,离子注入,双注入,光致发光,掺铒硅,热氧化,注量,铒掺杂,MEVVA离子源,光发射,单晶硅,发光薄膜,退激发,纳米,多孔硅,原子分数,新途径,SiO_2/Si,性...
【工作单位】 复旦大学
【曾工作单位】 复旦大学;
【所在地域】 上海
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[1]顾岚岚,熊祖洪,陈刚,徐少辉.掺铒硅多孔化后的光致发光特性[J]物理学报.2000,(02)
[2]肖志松,徐飞,张通和,程国安,杨锡震,顾岚岚,王迅.提高掺Er硅发光效率的途径与前景[J]材料导报.2000,(10)
[3]徐飞,肖志松,程国安,易仲珍,曾宇昕,张通和,顾岚岚.(Si,Er)双注入热氧化SiO_2/Si薄膜的表面结构及1.54μm光发射[J]半导体学报.2001,(10)
[4]徐飞,肖志松,张通和,程国安,易仲珍,曾宇昕,顾岚岚.(Si,Er)双注入单晶硅近红外光发射 [J]北京师范大学学报(自然科学版).2001,(04)
[5]肖志松,徐飞,张通和,程国安,顾岚岚.掺铒硅基纳米发光薄膜的形成过程与性能研究 [J]北京师范大学学报(自然科学版).2001,(04)
[6]徐飞,肖志松,程国安,易仲珍,曾宇昕,张通和,顾岚岚.铒掺杂富硅热氧化SiO_2/Si发光薄膜的显微结构[J]光谱学与光谱分析.2001,(06)
[7]肖志松,徐飞,张通和,程国安,顾岚岚.掺铒硅基材料发光的新途径[J]物理学报.2001,(01)
[8]徐飞,肖志松,程国安,易仲珍,曾宇昕,张通和,顾岚岚.铒偏析与沉淀对掺铒硅154μm光发射的影响[J]中国稀土学报.2002,(01)
[9]徐少辉,熊祖洪,顾岚岚,柳毅,丁训民,侯晓远.电化学脉冲腐蚀法制备窄峰发射的多孔硅微腔[J]半导体学报.2002,(03)
[10]肖志松,徐飞,张通和,程国安,顾岚岚.(Si,Er)双注入热氧化硅的光致发光[J]光谱学与光谱分析.2002,(04)
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