颜志波
【姓名】 颜志波
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 薄膜,氧化钨,氧化氮,磁控溅射,WO_3,薄膜特性,磁控,溅射,元件,气敏,溅射法,传感器研究,敏度,恢复时间,福州大学,干扰气体,粒径,平均尺寸,纳米微粒,选择性,
【工作单位】 福州大学
【曾工作单位】 福州大学;
【所在地域】 福建福州
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[1]林伟,黄世震,陈伟,颜志波,耿涛.磁控溅射WO_3薄膜特性研究[J]郑州轻工业学院学报.2002,(04)
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