葛
【姓名】 葛
【职称】
【研究领域】 物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 液晶面版光刻机,光刻机工作台,曝光间隙,承片台,光刻机,固定基准,工作台,液晶,面板,对准工作台,平行度误差,千分表,校平,支承杆,表读数,曝光面积,套刻精度,套刻,块规,平行度,
【工作单位】 福州大学
【曾工作单位】 福州大学;
【所在地域】
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[1]葛　，林永水，石宗宝，王思年，吴淦淦.大面积液晶面板光刻机新型工作台设计[J]中国机械工程.1995,(S1)
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