张鉴
【姓名】 张鉴
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;自动化技术;
【研究方向】 MEMSCAD研究
【发表文献关键词】 模型,ICP刻蚀,等离子体刻蚀,电感耦合等离子体,刻蚀技术,等离子体分布,粒子模拟,直接模拟蒙特卡罗法,刻蚀速率,反应离子深刻蚀,表面演化算法,模型比较,仿真,交替复合深刻蚀,模拟结果,算法,离子流,...
【工作单位】 东南大学
【曾工作单位】 东南大学;
【所在地域】 南京
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[1]张鉴;黄庆安;李伟华;.固定宽度结构等离子体刻蚀中Lag效应的数值模拟[J]传感技术学报.2006,(01)
[2]张鉴;黄庆安;李伟华;.电感耦合等离子体(ICP)深刻蚀的模型与模拟[J]仪器仪表学报.2006,(10)
[3]张鉴;黄庆安;李伟华;.MEMS工艺中反应离子深刻蚀硅片的数值模型研究[J]传感技术学报.2006,(05)
[4]张鉴,黄庆安.ICP刻蚀技术与模型[J]微纳电子技术.2005,(06)
[5]冯明,张鉴,黄庆安.ICP刻蚀中等离子体分布的模拟[J]电子器件.2005,(03)
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