茅昕辉
【姓名】 茅昕辉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ITO膜,化学稳定性,幕墙玻璃,刻蚀特性,直流磁控反应溅射,刻蚀液,透明导电膜,溅射,直流磁控,膜层均匀性,反应磁控溅射沉积,磁控,ITO透明导电膜,方阻,动态随机,反应溅射沉积,TiO2薄膜,透明导...
【工作单位】 东南大学
【曾工作单位】 东南大学;
【所在地域】 南京
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[1]茅昕辉,刘云峰,张浩康,陈国平.铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究[J]真空科学与技术.2000,(02)
[2]茅昕辉,陈国平.ITO膜的化学稳定性与刻蚀特性[J]真空.1994,(05)
[3]张旭苹;陈国平;茅昕辉;.直流反应溅射沉积ITO膜的X射线光电子谱研究[J]光电子技术.1994,(02)
[4]张随新,茅昕辉,张浩康,陈国平.幕墙玻璃工业化生产的若干问题[J]真空.1995,(04)
[5]茅昕辉,陈国平,陈公乃,张随新,张旭苹.直流磁控反应溅射沉积ITO透明导电膜的研究[J]光电子技术.1995,(01)
[6]茅昕辉,陈国平.反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析[J]电子器件.1996,(02)
[7]茅昕辉,陈国平,张旭苹.用于Gb级DRAM的TiO_2薄膜结构的研究[J]电子器件.1996,(04)
[8]茅昕辉,张浩康,陈国平.氧化铟锡透明导电玻璃可见光透射率的研究[J]电子器件.1997,(03)
[9]刘云峰,茅昕辉,张浩康,陈国平.交流磁控溅射技术及其应用[J]电子器件.1998,(01)
[10]茅昕辉,张浩康,陈国平.用于LCD的氧化铝阻挡层的射频反应溅射沉积及其特性[J]光电子技术.1998,(02)
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