刘云峰
【姓名】 刘云峰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;电信技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氧化钨薄膜,ZnS薄膜,交流磁控溅射,透射光谱,脉冲溅射,电致变色,薄膜,电子束蒸发,湿度控制器,干法刻蚀,X射线衍射,电致变色性能,电子束,刻蚀技术,晶面距,微细加工,超大规模集成电路,透射率,亚微...
【工作单位】 东南大学
【曾工作单位】 东南大学;
【所在地域】 南京
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[1]茅昕辉,刘云峰,张浩康,陈国平.铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究[J]真空科学与技术.2000,(02)
[2]李建军,陈国平,刘云峰,黄蕙芬.掺杂氧化钨薄膜的电致变色特性[J]真空.2001,(02)
[3]刘云峰,陈国平.IGBT的过流保护策略[J]电子器件.1999,(01)
[4]黄蕙芬,庄大明,张浩康,刘云峰.用于有源矩阵液晶显示的Ta-Ta2O5-TaMIM薄膜二极管[J]真空电子技术.1999,(01)
[5]陈国平，黄惠芬，陈公乃，李建军，傅小妃，刘云峰.电子束蒸发氧化钨薄膜电致变色性能的研究[J]太阳能学报.1995,(02)
[6]刘云峰，陈国平.ZnS薄膜的结构研究[J]真空.1996,(02)
[7]刘云峰,陈国平.使用薄膜湿敏元件的湿度控制器的设计[J]仪表技术与传感器.1998,(08)
[8]刘云峰,茅昕辉,张浩康,陈国平.交流磁控溅射技术及其应用[J]电子器件.1998,(01)
[9]刘云峰,陈国平.亚微米干法刻蚀技术的现状[J]电子器件.1998,(02)
[10]刘云峰,陈国平.脉冲溅射电源的设计及其应用[J]电子器件.1998,(04)
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