李伟华
【姓名】 李伟华
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;仪器仪表工业;自动化技术;
【研究方向】 MEMSCAD
【发表文献关键词】 模型,电感耦合等离子体,交替复合深刻蚀,模拟结果,相关性,节点分析法,加权余量法,热执行器,MEMS,在线测试系统,吸合电压,数据采集卡,空间温度分布,刻蚀速率,元胞自动机,各向同性刻蚀,离子辅助,光...
【工作单位】 东南大学
【曾工作单位】 东南大学;
【所在地域】 南京
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中国期刊全文数据库    共找到105篇
[1]王飞;周再发;李伟华;黄庆安;.基于严格电磁场模型的光学光刻仿真（英文）[J]强激光与粒子束.2015,(02)
[2]于骁;周再发;李伟华;黄庆安;.等离子体刻蚀工艺模型研究进展[J]微电子学.2015,(01)
[3]蒋明霞;李伟华;张良;葛宇昊;.基于EIT技术的气流传感器及其实验研究[J]东南大学学报(自然科学版).2012,(06)
[4]王雷;李伟华;周再发;.MEMS薄膜泊松比测试方法的研究进展[J]微纳电子技术.2013,(06)
[5]张晓强;李伟华;周再发;.MEMS薄膜塞贝克系数的测试结构研究进展[J]微纳电子技术.2013,(08)
[6]钱晓霞;李伟华;.MEMS表面加工中材料层厚度电学测试结构[J]南京信息工程大学学报(自然科学版).2013,(06)
[7]刘天一;李伟华;.双端固支微机电变截面梁二维效应的研究[J]电子器件.2009,(01)
[8]方玉明;李伟华;.衔铁平行运动的磁微执行器Pull-in机理分析[J]传感技术学报.2009,(04)
[9]张涵;李伟华;.A novel method for generating a rectangular convex corner compensation structure in an anisotropic etching process[J]半导体学报.2009,(07)
[10]方玉明;李伟华;.静磁微执行器模型研究进展[J]半导体技术.2009,(07)
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中国重要会议全文数据库    共找到6篇
[1]徐大为;李伟华;周再发;.低压化学气相淀积的模型及模拟[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）.2005-08-01
[2]朱赤;李伟华;周再发;.反应离子刻蚀的模型及仿真[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）.2005-08-01
[3]聂萌;黄庆安;李伟华;.MEMS薄膜泊松比在线提取方法研究[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）.2005-08-01
[4]李艳辉;李伟华;周再发;.氢氟酸腐蚀牺牲层数值模型及计算机仿真[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）.2005-08-01
[5]周再发;黄庆安;李伟华;王涓;孙岳明;.用3D动态元胞自动机模型模拟硅的各向异性腐蚀过程[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）.2005-08-01
[6]刘祖韬;黄庆安;李伟华;.多晶硅薄膜材料参数的在线测试系统[A].中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集（一）.2005-08-01
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承担国家科研项目    共找到1个
[1]常洪龙;郝一龙;左春柽;赵新;李伟华;王安麟;.微纳设计与工具技术[A].吉林大学;东南大学;西北工业大学;北京大学;南开大学;同济大学;.项目经费 400万元.2006-09-20.资助文献数 0 篇
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