孙国樑
【姓名】 孙国樑
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 界面,硅直接键合,吸杂,硅片直接键合,器件性能,键合片,硅氧化物,直流电流增益,无定型,亲水处理,抛光,电阻率,电流增益,吸除,吸除作用,晶向,非键合,反向漏电,硅衬底,剥离率,
【工作单位】 东南大学
【曾工作单位】 东南大学;
【所在地域】 江苏南京
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[1]詹娟,孙国樑,刘光廷.硅片直接键合界面的存在对器件性能的影响[J]微电子学.1993,(06)
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