SHI
【姓名】 SHI
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 中空阴极,电方法,薄膜研究,氮化物,纳米级,英文,直流,have,China,Science,
【工作单位】 东华大学
【曾工作单位】 东华大学;
【所在地域】
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 0 0 0 0 31
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]YAN Y.H.,SHI Y.C.,YANG P.,TANG X.L.,FENG P.X..用直流中空阴极放电方法 (DC HCD)生长的纳米级碳的氮化物薄膜研究(英文)[J]光散射学报.2005,(01)
更多