关奎之
【姓名】 关奎之
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无机化工;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁控溅射源,磁控溅射靶,圆形平面,圆柱形,应用,离子镀,等离子区,检漏,等效电流,氦质谱仪,设计与计算,高斯,刀具涂层,真空镀膜设备,真空电弧蒸发,永久磁铁,倒锥,磁场计算,刀具,磁感应强度,阴极暗区...
【工作单位】 东北工学院
【曾工作单位】 东北工学院;
【所在地域】 沈阳市
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[1]孙广生,姜增奎,关奎之,刘玉岱,汪雪云.膜盒式真空继电器的研制[J]真空.1984,(03)
[2]关奎之,孙广生.有关真空检漏系统几个参数的探讨[J]真空.1985,(02)
[3]关奎之,李云奇.圆柱形磁控溅射源的设计与计算[J]真空.1986,(02)
[4]关奎之,李云奇.圆形平面磁控溅射靶的设计[J]真空.1986,(03)
[5]李云奇,关奎之,徐成海.真空电弧蒸发源及其在刀具涂层离子镀中的应用[J]真空.1989,(05)
[6]关奎之.真空镀膜设备的氦质谱仪检漏[J]真空.1990,(01)
[7]李云奇,关奎之,刘严.倒锥形磁控溅射源的设计与计算[J]真空.1990,(05)
[8]徐成海,关奎之,张世伟.浅述真空冷冻干燥机设计与计算[J]真空.1990,(06)
[9]关奎之,李云奇,姜增奎,孙广生,张世伟.磁流体真空动密封的质谱检漏[J]真空.1991,(04)
[10]李云奇,关奎之,徐成海,王宝霞,张世伟.低电阻ITO透明导电膜的制备和应用[J]真空.1991,(04)
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