王宝霞
【姓名】 王宝霞
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 真空离子渗碳炉,磁控溅射源,高压气淬,真空系统,小机械,真空系统设计,抽速,渗碳,真空炉,溅射,正交电磁场,罗茨泵,离子束刻蚀,淬火,旋轮线,干法刻蚀,靶材,溅射镀膜,刻蚀剂,真空离子,热阴极电离规,...
【工作单位】 东北工学院
【曾工作单位】 东北工学院;
【所在地域】 沈阳市
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[1]李云奇,王宝霞.膜基界面附着强度的机理分析及提高附着强度的途径[J]真空.1986,(02)
[2]王宝霞,李云奇.磁控溅射源及其在电子工业中的应用[J]真空.1986,(05)
[3]张继玉,王宝霞.真空离子渗碳炉的真空系统与节能[J]真空.1986,(05)
[4]李云奇,王宝霞.薄膜干法刻蚀技术的现状与发展趋势[J]真空.1987,(05)
[5]J.W.Bouwman,王宝霞.高压气淬的实验与进展[J]真空.1987,(05)
[6]王宝霞.介绍一种新型真空炉和新型真空系统[J]真空.1988,(02)
[7]Christan Edelmann,王宝霞.用热阴极电离规中的离子漂移速度显示低真空区域的压强[J]真空.1988,(06)
[8]F.Bless;J.W.Bouwmen;王宝霞;喻子建;.高压气淬在真空热处理炉中的应用[J]国外金属热处理.1988,(02)
[9]姜增奎,李云奇,王宝霞.圆柱形磁控溅射源I-V特性的实验研究[J]真空.1989,(06)
[10]MANI NATARAJAN;王宝霞;喻子建;.用强制冷却系统的真空热处理[J]国外金属热处理.1989,(03)
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