周卓
【姓名】 周卓
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 反应磁控溅射,离子镀,钛膜,氮化,溅射靶,氮分压,溅射,薄膜质量,氮气流量,TiN膜,工艺参数,基板温度,氮化钛,基板偏压,极电压,氮流量,总压强,溅射率,金属类,主波长,功率增加,镀膜,真空度,反应...
【工作单位】 东北工学院
【曾工作单位】 东北工学院;
【所在地域】 沈阳
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[1]杨树贵,周卓.反应磁控溅射离子镀TiN膜的工艺参数[J]东北工学院学报.1987,(03)
[2]杨树贵,周卓.反应磁控溅射离子镀氮化钛薄膜质量与工艺参数的关系[J]无机材料学报.1988,(02)
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