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信觉俗
【姓名】
信觉俗
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】
多弧离子镀,附着强度,辉点,附着性,PVD法,弧光,阴极,铬膜,蒸发源,ABS,铬,陶瓷涂层,溅射镀,多弧,剪切力,表面自由能,真空弧,界面自由能,发射电子,阴极表面,中间层,磁控溅射,磁场线圈,组成...
【工作单位】
东北工学院
【曾工作单位】
东北工学院;
【所在地域】
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共找到4篇
[1]信觉俗.
离子对PVD法陶瓷涂层附着性的作用
[J]表面技术.1994,(05)
[2]信觉俗.
多弧离子镀技术
[J]真空.1987,(03)
[3]信觉俗.
膜—衬界面中间层改善附着强度的作用
[J]真空科学与技术.1987,(06)
[4]信觉俗,孙旭.
ABS塑料溅射镀铬
[J]真空.1990,(05)
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研究方向相近的学者
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高洪巍
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