吴宇峰
【姓名】 吴宇峰
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;机械工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 非平衡磁控溅射,Ti(C,N)薄膜,薄膜硬度,基体负偏压,工艺参数,基体材料,硬质薄膜,直流负偏压,工作气氛,硬质合金,高速钢,磁控溅射技术,不锈钢基体,制备,中频,薄膜厚度,硬度测试,磁控溅射离子镀...
【工作单位】 东北大学
【曾工作单位】 东北大学;
【所在地域】 辽宁沈阳
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[1]张以忱;吴宇峰;巴德纯;马胜歌;.工艺参数对非平衡磁控溅射Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响[J]钢铁研究学报.2007,(07)
[2]李树军;张艳丽;吴宇峰;任奇武;.空间凸轮驱动的单自由度PRS型并联机构及其设计[J]中国机械工程.2005,(22)
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[1]吴宇峰;马胜歌;张德元;张以忱;耿漫;周;.工艺参数对中频非平衡磁控溅射制备TiN膜性能的影响[A].2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集.2005-07-01
[2]周祎;马胜歌;张德元;张以忱;耿漫;吴宇峰;.中频非平衡磁控溅射制备TiN膜[A].2005'全国真空冶金与表面工程学术会议论文集.2005-07-01
[3]张以忱;吴宇峰;巴德纯;马胜歌;.中频离子辅助溅射Ti/TiN/Ti(C,N)膜层的结构性能[A].中国真空学会2006年学术会议论文摘要集.2006-10-01
[4]张以忱;吴宇峰;巴德纯;.非平衡磁控溅射制备Ti-N-C薄膜性能研究(英文)[A].真空冶金与表面工程——第八届真空冶金与表面工程学术会议论文集.2007-06-01
[5]张以忱;吴宇峰;巴德纯;.非平衡磁控溅射制备Ti-N-C薄膜性能研究[A].第八届全国真空冶金与表面工程学术会议论文摘要集.2007-06-01
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