吴纬国
【姓名】 吴纬国
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻对准,光刻胶,隔离技术,对准标记,光刻工艺,IC制造工艺,应用性能,集成电路制造,特性关系,反应机理,集成电路,套准,套准精度,光刻设备,工艺集成,场内套准,曝光技术,隔离工艺,高性能,隔离模式,...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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[1]马万里,赵建明,吴纬国.IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究[J]半导体技术.2005,(06)
[2]马建霞,吴纬国,张庆中,贾宇明.浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能[J]半导体技术.2005,(06)
[3]马万里,赵建明,吴纬国.IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究[J]电子工业专用设备.2005,(02)
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