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田召明
【姓名】
田召明
【职称】
【研究领域】
材料科学;电力工业;工业通用技术及设备;
【研究方向】
铁电薄膜的制备和物理特性研究
【发表文献关键词】
铁电薄膜,射频磁控溅射法,疲劳特性,PZT铁电薄膜,印迹,矫顽,界面层,钛酸铅,无机非金属材料,结晶取向,剩余极化,铁电性,矫顽场,升温速率,退火方式,电压偏移量,快速退火,电学性能,热处理,PZT薄...
【工作单位】
电子科技大学
【曾工作单位】
电子科技大学;
【所在地域】
成都
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到2篇
[1]田召明,张树人,陈富贵,杨成韬.
退火工艺对Pb(Zr_(0.55)Ti_(0.45))O_3铁电薄膜结晶取向的影响
[J]信息记录材料.2005,(03)
[2]陈富贵,杨成韬,刘敬松,田召明,彭家根,张树人.
PZT铁电薄膜的印迹研究
[J]电子元件与材料.2005,(05)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库
共找到1篇
[1]田召明.
PZT薄膜的铁电性和极化反转特性研究
[D].电子科技大学.2005
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中国重要会议全文数据库
共找到1篇
[1]田召明;张树人;刘劲松;陈富贵;杨成韬;.
铁电薄膜极化反转电流的电场和温度特性研究
[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅲ.2004-09-01
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研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
邓亮
北京航空航天大学
师尚贵
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陈峥
复旦大学
杨彩霞
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王悦辉
华南理工大学
李楚容
华中科技大学
黄新堂
华中科技大学
饶韫华
华中科技大学
王培英
华中科技大学
曾亦可
华中理工大学
卢春如
华中理工大学
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
陈富贵
电子科技大学
3
张树人
电子科技大学
3
杨成韬
电子科技大学
3
刘敬松
电子科技大学
1
彭家根
电子科技大学
1
刘劲松
电子科技大学
1
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