马万里
【姓名】 马万里
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;
【研究方向】 集成电路工艺和新型功率器件研究
【发表文献关键词】 光刻对准,隔离技术,IC制造工艺,对准标记,光刻工艺,特性关系,光刻胶,集成电路,工艺集成,套准,套准精度,光刻设备,场内套准,隔离工艺,隔离模式,对准精度,光刻机,晶片,工艺因素,套刻精度,溅镀,主...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]马万里,赵建明,吴纬国.IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究[J]半导体技术.2005,(06)
[2]马万里,赵建明,吴纬国.IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究[J]电子工业专用设备.2005,(02)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到2篇
[1]马万里.基于磁耦合谐振的无线能量传输系统研究[D].电子科技大学.2020
[2]马万里.IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究[D].电子科技大学.2005
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[1]马万里;胡艺耀;孙胜;.用于无线能量传输中最大功率追踪的可变步长扰动观察法[A].2020年全国微波毫米波会议论文集（下册）.2020-09-20
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