马建霞
【姓名】 马建霞
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 微电子光刻效果的技术研究工作
【发表文献关键词】 光刻胶,应用性能,集成电路制造,反应机理,集成电路,曝光技术,高性能,机理及应用,加工能力,性能指标,研究方向,高分辨率,光致抗蚀剂,193nm,光敏产酸物,驻波效应,化学增幅,抗蚀剂,干法蚀刻,图形...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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[1]马建霞,吴纬国,张庆中,贾宇明.浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能[J]半导体技术.2005,(06)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]马建霞.VLSI曝光成像效果的技术研究[D].电子科技大学.2005
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