许武毅
【姓名】 许武毅
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ITO膜,电阻率,偏压,氧分压强,基体偏压,透射率,膜电阻,工艺参数,实验曲线,氧原子,理论曲线,参数影响,t曲线,四探针技术,氧分压,退火温度,解吸能,吸附原子,镀膜设备,加偏压,杂质原子,实验结果...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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[1]张怀武,许武毅.工艺参数对ITO膜电阻率和透射率的影响[J]半导体技术.1992,(05)
[2]张怀武,许武毅,过壁君.淀积参数对ITO膜电阻率的影响[J]半导体学报.1993,(03)
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