孙明霞
【姓名】 孙明霞
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无机化工;电力工业;
【研究方向】 铁电薄膜材料的研究
【发表文献关键词】 氧化锌薄膜,磁控溅射,氧分压,择优取向,射频磁控溅射法,衬底温度,射频功率,氧氩比(V(O2)/V(Ar)),声表面波器件,溅射功率,基片温度,表面形貌,溅射制备,溅射沉积,结晶质量,薄膜结构,频率响...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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中国期刊全文数据库    共找到5篇
[1]孙明霞;钟朝位;张树人;张万里;陈祝;郑泽渔;.循环间歇溅射工艺对PLT薄膜性能的影响[J]压电与声光.2006,(01)
[2]陈祝;张树人;杜善义;杨成韬;孙明霞;郑泽渔;李波;董加和;.ZnO掺杂Li~+陶瓷靶及溅射膜制备工艺研究[J]功能材料.2006,(04)
[3]陈祝;张树人;杜善义;杨成韬;郑泽渔;李波;孙明霞;.ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究[J]无机材料学报.2006,(04)
[4]郑泽渔;张树人;杨成韬;钟朝位;董加和;孙明霞;刘敬松;.射频磁控溅射制备声表面波器件用ZnO薄膜[J]压电与声光.2007,(01)
[5]陈祝;张树人;杜善义;杨成韬;陈富贵;董加和;孙明霞;.c轴择优取向ZnO薄膜RF溅射工艺研究[J]压电与声光.2007,(03)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]孙明霞.PLT热释电薄膜材料的研究[D].电子科技大学.2006
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