霍彩红
【姓名】 霍彩红
【职称】
【研究领域】 化学;计算机软件及计算机应用;无线电电子学;
【研究方向】 电化学研究
【发表文献关键词】 双层电镀,电镀镍,碳纤维,微分脉冲极谱,4-吗啉二硫代羧酸钾,虚拟仪器系统,LabVIEW软件,电化学分析系统,虚拟仪器技术,碳纤维表面,去胶,铊,滴汞电极,二硫代羧酸,灼烧,金属化工艺,痕量铊,构建...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 四川成都
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/4 2 0 2 47 1348
中国期刊全文数据库    共找到3篇
[1]霍彩红,何为,范中晓.碳纤维表面金属化工艺研究[J]表面技术.2003,(06)
[2]何为,范中晓,霍彩红.微分脉冲极谱测定痕量铊的研究[J]电子科技大学学报.2004,(03)
[3]范中晓,何为,霍彩红.基于虚拟仪器及LabVIEW~(TM)的电化学分析系统构建与应用[J]现代科学仪器.2005,(03)
更多
中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]霍彩红.挠性多层线路板孔金属化技术研究[D].电子科技大学.2005
更多