吴志辉
【姓名】 吴志辉
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 薄膜,表面保护,铂薄膜,电阻器件,电阻,保护膜,温度系数,元件,铂膜,金属铂,电阻变化,玻璃粉,最佳配比,电子科技大学,软化点,碱金属离子,电学性能,铅离子,X射线,性能的影响,
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】
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[1]王守绪,蔡寿辉,吴志辉.铂薄膜电阻器件表面保护的研究[J]表面技术.1995,(01)
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