王慧秀
【姓名】 王慧秀
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 闪火电压,铝电解电容器,工作电解液,印制电路板,高密度互连,精细线路,微孔,纳米SiO2,等离子清洗,超声波清洗,微孔金属化,正交实验设计,纳米SiO_2,无机非金属材料,二氧化硅溶胶,纳米二氧化硅,...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 四川成都
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中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]王慧秀;何为;何波;龙海荣;.高密度互连(HDI)印制电路板技术现状及发展前景[J]世界科技研究与发展.2006,(04)
[2]何为;王守绪;王慧秀;王偕恕;.有机溶剂纳米SiO_2溶胶的制备和性能[J]材料研究学报.2006,(06)
[3]王慧秀;何为;何波;龙海荣;.微孔沉镀铜前处理研究[J]印制电路信息.2006,(12)
[4]王守绪,王慧秀,王偕恕.纳米SiO_2对铝电解电容器闪火电压的影响研究[J]电子元件与材料.2005,(04)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]王慧秀.挠性HDI板关键技术研究[D].电子科技大学.2007
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