蔡寿辉
【姓名】 蔡寿辉
【职称】
【研究领域】 无机化工;无线电电子学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 掺锑,共沉,居里点,粉体,薄膜,钛酸盐,W-型铁氧体,共沉法,表面保护,液相,共沉淀法,钡粉,DSC法,浆料,钛酸钡,磁化强度,铂薄膜,锶钡,W型铁氧体,电阻器件,相组,热分析,纯相,钛酸,电阻,室温...
【工作单位】 电子科技大学
【曾工作单位】 电子科技大学;
【所在地域】 成都
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[1]王守绪,蔡寿辉,吴志辉.铂薄膜电阻器件表面保护的研究[J]表面技术.1995,(01)
[2]蒋德光,刘承红,蔡寿辉.液相共沉淀法制备掺锑钛酸钡粉体[J]电子科技大学学报.1990,(02)
[3]蔡寿辉,胡涛.DSC法测共沉钛酸锶钡粉体居里点[J]电子科技大学学报.1990,(03)
[4]饶明明,蔡寿辉.纯相W型铁氧体BaZn_(2(1-x))(LiFe)_xFe_(16)O_(27)的制备[J]无机材料学报.1991,(01)
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