孙禹辉
【姓名】 孙禹辉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 夹持技术,化学机械抛光,区域压力,真空吸盘,吸盘,抛光垫,材料去除率,集成电路,控制技术,夹持系统,材料去除量,化学机械,石蜡,磨粒,静电,抛光液,材料去除,抛光加工,IPEC,圆柱销,硅片材料,工作...
【工作单位】 大连理工大学
【曾工作单位】 大连理工大学;
【所在地域】 辽宁大连
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中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]孙禹辉,康仁科,郭东明,金洙吉,苏建修.化学机械抛光中的硅片夹持技术[J]半导体技术.2004,(04)
[2]孙禹辉,康仁科,郭东明,金洙吉.CMP加工中的真空吸盘区域压力控制技术[J]电子工业专用设备.2004,(07)
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中国博士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]孙禹辉.硅片化学机械抛光中材料去除非均匀性研究[D].大连理工大学.2011
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