胡远荣
【姓名】 胡远荣
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;物理学;
【研究方向】 电致变色材料的研究
【发表文献关键词】 薄膜光学,CrNx薄膜,钛掺杂氧化钨薄膜,电弧离子镀,电致变色性能,表面形貌,磁控溅射技术,显微硬度,摩擦磨损性能,薄膜结构,相结构,拉曼光谱,磁控溅射法,气含量,原子力显微镜,循环寿命,响应速度,衍...
【工作单位】 大连理工大学
【曾工作单位】 大连理工大学;
【所在地域】 辽宁大连
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[1]胡远荣;王丽阁;李国卿;.Electrochromic Properties of Sputtered Ti-Doped WOa Films[J]Plasma Science and Technology.2007,(04)
[2]王丽阁;胡远荣;李国卿;谢为;.中频孪生磁控溅射WO_3薄膜及变色性能研究[J]光学学报.2006,(06)
[3]胡远荣;王丽阁;李国卿;刘振东;.磁控溅射法制备钛掺杂WO_3薄膜结构和性能的研究[J]光学学报.2007,(03)
[4]钟彬;苟伟;李国卿;胡远荣;.氮气含量对CrN_x薄膜相结构及摩擦磨损性能的影响[J]材料热处理学报.2007,(03)
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[1]王丽阁;胡远荣;李国卿;谢为;.中频孪生磁控溅射非晶WO_3电致变色薄膜[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01
[2]胡远荣;王丽阁;李国卿;谢为;.氧流量和钛掺杂对WO_3电致变色性能的影响[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
[3]钟彬;苟伟;李国卿;胡远荣;刘振东;.氮分压对电弧离子镀CrN_x薄膜结构与性能的影响[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
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