我的机构馆
退出
数字图书馆首页
CNKI首页
浏览器下载
帮助
胡远荣
【姓名】
胡远荣
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;材料科学;物理学;
【研究方向】
电致变色材料的研究
【发表文献关键词】
薄膜光学,CrNx薄膜,钛掺杂氧化钨薄膜,电弧离子镀,电致变色性能,表面形貌,磁控溅射技术,显微硬度,摩擦磨损性能,薄膜结构,相结构,拉曼光谱,磁控溅射法,气含量,原子力显微镜,循环寿命,响应速度,衍...
【工作单位】
大连理工大学
【曾工作单位】
大连理工大学;
【所在地域】
辽宁大连
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
0
/
8
3
0
4
76
1640
文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到4篇
[1]胡远荣;王丽阁;李国卿;.
Electrochromic Properties of Sputtered Ti-Doped WOa Films
[J]Plasma Science and Technology.2007,(04)
[2]王丽阁;胡远荣;李国卿;谢为;.
中频孪生磁控溅射WO_3薄膜及变色性能研究
[J]光学学报.2006,(06)
[3]胡远荣;王丽阁;李国卿;刘振东;.
磁控溅射法制备钛掺杂WO_3薄膜结构和性能的研究
[J]光学学报.2007,(03)
[4]钟彬;苟伟;李国卿;胡远荣;.
氮气含量对CrN_x薄膜相结构及摩擦磨损性能的影响
[J]材料热处理学报.2007,(03)
更多
中国优秀硕士学位论文全文数据库
共找到1篇
[1]胡远荣.
磁控溅射法制备WO_3电致变色薄膜和钛掺杂改性研究
[D].大连理工大学.2006
更多
中国重要会议全文数据库
共找到3篇
[1]王丽阁;胡远荣;李国卿;谢为;.
中频孪生磁控溅射非晶WO_3电致变色薄膜
[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01
[2]胡远荣;王丽阁;李国卿;谢为;.
氧流量和钛掺杂对WO_3电致变色性能的影响
[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
[3]钟彬;苟伟;李国卿;胡远荣;刘振东;.
氮分压对电弧离子镀CrN_x薄膜结构与性能的影响
[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
刘振东
大连理工大学
2
李国卿
大连理工大学
5
王丽阁
大连理工大学
3
苟伟
大连理工大学
2
钟彬
大连理工大学
2
谢为
大连理工大学
2
更多
该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
张乃枝
武汉理工大学
1
更多