胡礼忠
【姓名】 胡礼忠
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 掺杂,金属有机化学气相沉积,ZnO薄膜,氧化锌,NH_3,MOCVD,特性比较,p型,半峰全宽,集成光电子学,等离子,高阻,p型掺杂,科学与工程,等离子辅助,电阻率,国家重点实验室,n型,掺杂源,吉林...
【工作单位】 大连理工大学
【曾工作单位】 大连理工大学;
【所在地域】 辽宁大连
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[1]常玉春,杨晓天,王金忠,王新强,刘博阳,刘大力,胡礼忠,杜国同.等离子MOCVD系统生长ZnO薄膜掺N_2和掺NH_3特性比较[J]发光学报.2004,(02)
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