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【姓名】	丁万昱
【职称】
【研究领域】	工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】	材料表面
【发表文献关键词】	类金刚石,DLC膜,磁过滤,微波ECR等离子体,等离子体增强化学气相沉积,保护膜,氮化硅,磁盘保护膜,等离子体密度,电子温度,读写磁头,朗缪尔探针,类金刚石膜,存储密度,SiCN,化学结构,力学性能,...
【工作单位】	大连理工大学
【曾工作单位】	大连理工大学;
【所在地域】	大连

中国期刊全文数据库 共找到14篇

[2]雷鸣昊;张宇;丁万昱;刘金远;王晓钢;.Effects of Ion Temperature on Collisionless and Collisional RF Sheath[J]Plasma Science and Technology.2006,(05)

[3]张立娜;丁万昱;巨东英;柴卫平;.氧离子束工作压强对PET表面化学键结构及润湿性能的影响[J]真空科学与技术学报.2013,(07)

[4]丁万昱;王华林;巨东英;柴卫平;.O_2流量对磁控溅射N掺杂TiO_2薄膜成分及晶体结构的影响[J]物理学报.2011,(02)

[5]赵艳艳;徐军;丁万昱;张明明;陆文琪;.等离子体技术沉积SiCN薄膜中杂质O的来源、化合状态及其对薄膜结构和性能的影响[J]真空科学与技术学报.2009,(01)

[6]丁万昱;徐军;陆文琪;邓新绿;董闯;.微波ECR磁控溅射制备SiN_x薄膜的XPS结构研究[J]物理学报.2009,(06)

[7]丁万昱;徐军;陆文琪;邓新绿;董闯;.Ultra-thin a-SiN_x protective overcoats for hard disks and read/write heads[J]Chinese Physics B.2009,(04)

[8]丁万昱;徐军;李艳琴;朴勇;高鹏;邓新绿;董闯;.微波ECR等离子体增强磁控溅射制备SiNx薄膜及其性能分析[J]物理学报.2006,(03)

[9]朴勇;梁宏军;高鹏;丁万昱;陆文琪;马腾才;徐军;.沉积参数对碳氮化硅薄膜化学结构及光学性能的影响[J]应用光学.2006,(04)

[10]李亚磊;邓新绿;俆军;丁万昱;.高信噪比Langmuir探针系统[J]核聚变与等离子体物理.2006,(04)

中国博士学位论文全文数据库 共找到1篇

中国重要会议全文数据库 共找到2篇

[1]丁万昱;徐军;李艳琴;高鹏;朴勇;邓新绿;董闯;.等离子体中Si原子相对密度对SiNx薄膜结构、性能的影响[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01

[2]朴勇;高鹏;徐军;丁万昱;邓新绿;董闯;.碳含量及化学结构对SiCN薄膜结构和性能的影响[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01

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